В настоящее время находящийся под серьёзными технологическими санкциями Китай, испытывает острые сложности в выпуске современных чипов. Национальные производители литографов(установок на которых выжигаются кремниевые пластины в заготовки кристаллов контроллеров и процессоров) с большим трудом пытаются запустить выпуск устаревших, но всё ещё актуальных для телевизоров и подобной техники 28нм станков, в то время как для изготовления CPU необходимы более современные техпроцессы. Отчасти крупнейшему национальному производителю «кремния» SMIC удалось решить проблему, путём улучшения закупленных до введения санкций 14нм DUV — литографов ASML и освоения выпуска 7нм и даже 5нм, но это предел оборудования и КНР нужны новые технологии(литографические установки работающие с ультра жёсткими фиолетовыми волнами или EUV), которые ей явно никто не собирается отдавать или продавать.
Понимая ситуацию, местные it — гиганты, такие как Huawei и та же SMIC, примерно пять лет назад начали некие «движения», вливая в научные программы огромные средства. Пару лет назад появились данные о массовом выкупе земель со стороны компаний и возведении «чистых» цехов, что прямо указывало на отнесение объектов к литографии. И вот теперь, наконец, всё встало на свои места…
Накануне международное информационное агентство Reuters, со ссылкой на собственные проверенные источники объявило о прорыве китайской инженерии: якобы на территории страны, в лаборатории в Шэньчжэне удалось построить первую национальную литографическую EUV — установку. По данным издания, проект по созданию литографа рассматривается китайцами, как собственный «Манхэттенский проект»(так американцы обозначили программу по созданию и испытанию первой атомной бомбы), его лично курирует одно из самых доверенных лиц Си Цзиньпина — Дин Сюэсян, возглавляющий Центральную комиссию КПК по науке и технологиям. В свою очередь ответственной за весь процесс разработки назначена Huawei и её главы лично отчитываются перед Дин Сюэсяном.
Целью программы значится полная независимость Китая в сфере литографии, без потребностей в импортном оборудовании или сырье. Как уточнил источник Reuters:
«Цель в том, чтобы Китай в конечном итоге смог производить передовые чипы на оборудовании, полностью созданном внутри страны. Китай хочет на 100% исключить США из своих цепочек поставок»
Отдельным важнейшим моментом стало получение необходимых интеллектуальных наработок и профильных уникальных инженеров. Здесь по неподтверждённым данным Huawei пошла по пути поиска и «перекупки» действующих и бывших сотрудников ключевого производителя литографов — компании ASML по всему миру. Именно бывшие научные кадры ASML на основе своего опыта и знаний осуществили проектировку и создание EUV — установки. Притом, если какого — либо типа сложного оборудования не было в наличии, оно выкупалось на рынке б/у компонентов или новых запасных частей через посредников за любые средства.
В настоящее время испытывается лишь один готовый литограф и пока, из-за отсутствия собственных поставщиков необходимого оборудования и комплектующих, наладить массовый выпуск станков не представляется возможным. Но эксперты Reuters отмечают, с учётом почти бесконечного финансирования все технические сложности могут быть решены уже к 2028 — 2030 годам и тогда КНР сможет наладить массовый выпуск 2-4нм чипов.
Для США и Европы остаётся единственный путь противостояния — развиваться быстрее Китая. Уже сейчас Intel тестирует выпуск 1,4-1,8Нм продукции, а перспективные High-NA EUV литографы могут значительно увеличить технологический разрыв.
Вам может быть интересно: В Детройте установили памятник Робокопу
