Технологический лидер рынка памяти — компания SK Hunix в скором времени анонсирует выпуск своей продукции по новейшему 10нм техпроцессу, получившему наименование 1anm. Печать кремниевых пластин в данном случае будет происходить с применением экстремальной ултрафиолетовой литографии. По сравнению с текущей используемой SK Hunix 10нм технологией 1znm(также 10нм), новый подход обещает на 25% бОльшую плотность заготовок изделий на каждую кремниевую пластину, а получаемые чипы станут потреблять на 20% меньше электроэнергии. Кристаллы, производимые по технормам 1anm станут использоваться для изготовления мобильной памяти LPDDR4 и LPDDR4X с частотами достигающими 4266Мбит/с.

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *