Согласно информации российского издания Cnews, один из лидеров отечественной литографической промышленности — «Микрон» получила от правительства страны задачу по освоению нового профильного оборудования. Согласно описанию проекта, предприятие должно научиться выпускать станок способный изготавливать кремниевые пластины диаметром 150 и 200 миллиметров.

Интересным оказывается сам подход освоения нового оборудования. По задумке Минпромторга(и видимо после консультаций с ведущими отечественными экспертами отрасли), специалисты «Микрон» должны воспроизвести полностью из отечественных комплектующих американский аналог — установку — ветеран Archer 10 XT некогда созданную американской компанией KLA Tencor. На реализацию весьма амбициозного проекта выделена относительно скромная сумма в размере 1,5 миллиарда рублей, а срок сдали проекта — 2029 год.

Специалисты литографической отрасли в общении с журналистами Cnews уже отметили высокую амбициозность планов правительства. Оборудование является чрезвычайно сложным даже с учётом давности разработки и его освоение в столь сжатые сроки с относительно скромным бюджетом — задача не из простых. Единственное, что могло бы помочь реализовать проект к обозначенной дате — наличие у «Микрон» наработок в данном направлении(они с вероятностью 100% у компании есть, но на каком находятся уровне развития не уточняется).

Кстати, ни заказчик ни исполнитель не скрывают момент копирования: даже наименование конечной отечественной установки «Лучник» является русским переводом «Archer». Интересен и ещё один момент: американское оборудование рассчитано на изготовление кремниевых пластин под «прожиг» 130нм чипов. А это в свою очередь значит, к 2029 году отечественная наука должна создать литограф именно под обозначенные технологические нормы. Напомним, в настоящий момент в России создан литограф с длинной волны 350нм.

p.s. 130нм — это возможность производить процессоры уровня Pentium 3.

Вам может быть интересно: Европа впервые запустила свою новейшую сверхтяжёлую ракету Ariane 64