По данным издания Cnews, со ссылкой на группу компаний «Элемент», уже в самое ближайшее время первый отечественный фотолитограф будет поставлен заказчику. Даже не смотря на значительную отсталость оборудования по технологическим нормам современности, данный шаг вводит Россию в узкий круг стран, реально производящих собственное оборудование для выпуска чипов.

Согласно информации полученной журналистами, первым заказчиком получающим литографическую установку стала фабрика ГК «Отраслевые решения», которая уже готовится к приёмке высокотехнологического станка, предназначенного для выпуска сверхбольших интегральных схем. Не смотря на официально указанное соответствие оборудования топологическим нормам в 350нм, реальный «шаг волны» составляет 365 нанометров, а рабочее поле каждого изделия не превышает 22*22 миллиметра. На данной установке вряд ли получится наладить выпуск каких — либо чипов памяти или процессоров, технология 365нм для такого применения слишком отстала и получаемые изделия окажутся с низкими характеристиками объёма и производительности, а вот для изготовления кристаллов силовой или автомобильной электроники этого вполне хватит.

Кстати, в настоящее время ГК «Элемент» и входящий в неё «Зеленоградский нанотехнологический центр»(ЗНТЦ) уже ведут работы над следующим поколением литографов, способных производить чипы согласно 130нм технологическим нормам. В теории, на таком оборудовании уже можно будет наладить выпуск отечественных процессоров уровня производительности Pentium 3/4, а в многокристальной компоновке близких по возможностям к Core 2 Duo и Core 2 Quad.

Вам может быть интересно: Аналитика от OpenAI: 10% взрослого населения планеты хотя бы раз в неделю используют ChatGPT